硬鉻電鍍添加劑

產品分類

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產品代號：	HVSS
產品名稱：	硬鉻電鍍添加劑
參考配方：

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一、消耗量

硬鉻電鍍工藝不含氟，陰極效率高，深鍍能力好，成本低，性能穩定。而且可產生硬度達到1000HV、0.1的微裂紋硬鉻。HVSS硬鉻電鍍工藝兼有傳統硫酸型電鍍液的優良特性，只對鐵及鐵合金產生輕微腐蝕，且有良好的陰極電流效率，可達27%（傳統工藝只能依靠含氟的催化劑）。可廣泛應用于耐磨鏡面工件以及印刷機滾筒等各個領域，并且可在各種基材上鍍出所需的厚度。

二、開缸（100L）

鉻酸酐 30公斤

HVSS添加劑 5升

配槽步驟

1.徹底清洗鍍槽；

2.向鍍槽加入三分之二的去離子水(不能含有氯離子), 加熱至50℃左右；

3.在連續攪拌條件下逐步加入所需數量的鉻酸；

4.待鉻酸完全溶解后, 邊攪拌邊加入HVSS添加劑。

注意：不需要加硫酸

5.將溶液混勻后, 加去離子水至最終體積；

6.掛入陽極；

注意：新的鉛或鉛合金陽極要帶電下槽

7.用陰極板電解2-3小時，要大陰極小陽極，電流密度30-40 A/dm²；

8.鍍液配好可以使用。

三、設備

槽體 PP或PVC襯里的鋼槽

加熱/冷卻特覆隆加熱圈/冷卻圈，或鈦管。

掛鉤銅或鍍鎳的銅

四、操作條件

主要成分，工藝參數	****	范圍
溫度	55℃	42℃～60℃
陰極電流密度	50 A/d㎡	10～100A/d㎡
陽極電流密度	15 A/d㎡	5～30A/d㎡
電壓及整流器	依據情況不同，可分為5～15V，波紋小于5%
陽極攪拌	不需。應盡量使用滾動攪拌
空氣攪拌	建議不用
過濾	從一個槽過濾到另一個槽，僅在鍍液反常時使用
鍍速	55 A/d㎡，55℃時，約為1μm/min
鍍液成分
鉻酐	240～320g/L 建議新開缸用到300克
硫酸：鉻酐	1.1～1.4%
密度（新開缸、鉻酐濃度為300g/L時）	1.215g/cm³
	25.5°Be

五、鍍液的補充與維護

1. 維護：

范圍

鉻酸 240 ~300 g/L

硫酸 1.1~ 1.4% （與鉻酸的濃度有關）

2. 鍍液的補充：

如需添料，請在測量波美或分析后進行。一般，每周需測一次波美。鍍液密度會在電鍍過程中下降，每添加大約1.5㎏鉻酸酐可使100升鍍液升高1°Be，每添加100公斤鉻酸酐需補加HVSS 8-10升。

正確調整硫酸根含量通過分析數據分步處理：

> 提高1克/升單位的硫酸根需要加0.55毫升/升分析純硫酸（98%）

> 降低1克/升單位的硫酸根需要加2克/升碳酸鋇

六、HVSS添加劑的影響

1. 濃度太低，鍍層會出現乳白色或者變暗；濃度過高，會降低所用電流密度的****值，并導致鍍層在高區燒焦或出現核狀鍍層。

2. 如果添加劑補充過多，只能稀釋鍍液。所以建議按比例加入添加劑，帶出量及再循環量也會影響添加量。

七、雜質

1. 三價鉻的濃度一般3-8克比較好，不能超過15g/L，如超過必須用40-50A/dm²陰極電流密度下進行電解，且使陰極面積是陽極面積的15-20%。

2. 必須嚴格控制帶入鍍液里Fe、Cu、Ni和Zn雜質。

八、廢水處理

廢水中含有Cr⁶⁺離子。在pH值調節到2.0 - 2.5以后,Cr⁶⁺離子可以用亞硫酸氫鈉還原成Cr³⁺；在充分的反應之后, 用NaOH溶液調節pH值至8.5 - 9.0 , 使Cr³⁺生成氫氧化鉻(III)沉淀。分離出的沉淀及過濾出的氫氧化物泥, 當作廢物處理掉。

鍍液含六價鉻化合物及重金屬雜質，比如鐵和銅雜質。

水洗及濃縮廢液的處理必須符合當地環保標準。

九、分析方法

鉻酸的分析：

試劑：

H₂SO₄ 1:10

KI溶液 100g/L

淀粉溶液 20g/L

Na₂S₂O₃溶液 0.1N

步驟

1．取10mL鍍液至500mL容量瓶中；

2．取10mL①的鍍液至300 mL錐形瓶；

3．依次加入：50 ml水，10mL碘化鉀溶液，50mL 1:10的H₂SO₄；

4．加硫代硫酸鈉溶液滴定，直到棕色褪去；

5．加5 mL淀粉溶液滴定，直到變為無色，有時會出現淡綠色。

計算

g/L鉻酸 = 硫代硫酸鈉的滴定體積（mL）× 16.7

〖上一個產品：F-53 全氟辛基磺酸鉀〗〖下一個產品：NF-20 環保鉻霧抑制劑〗

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硬鉻電鍍添加劑